极端紫外线（EUV）平面镜

这些精密抛光，多层反射镜被设计为在设计波长发病率（AOI）的角度和最大可实现的反射率。它们设计用于EUV波束控制和谐波分离应用。

在13.5nm最大可实现反射
极紫外（EUV）平面镜是在5个可用°，在EUV光谱可用45°AOI的版本和特性几乎是理想的反射率在13.5nm，反射率最高的波长。该符合RoHS镜提供用于沉积的优异的热稳定性的超研磨单晶硅衬底上的涂层。表现出表面粗糙度小于3A RMS，这些EUV反射镜大大减少入射光的散射。的多层，金属/半导体涂层包括Mo / Si多层用硅顶层。与波长632.8nm和6.35毫米厚度为λ/ 10的表面平整度，45°AOI的反射镜是理想的转向s偏振光束，而5°AOI的反射镜是优异的用于非偏振光束的使用。

理想的CDI和材料科学的研究
极紫外（EUV）平面镜用于新兴应用如相干衍射摄像（CDI）和材料科学的研究。CDI是一种非接触式的成像技术，能够实现接近10nm的分辨率的，并且通常用于分析极小纳米制造的结构。反射镜也用作用于产生高次谐波（高次谐波）波束谐波选择器。极紫外（EUV）平面镜在股票和可立即交付。