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极端紫外线(EUV)平面镜可用于立即交货13.5nm
发布10/04/2018
理想的光束导向和材料科学研究
巴林顿,新泽西,美国- edmundoptics®(EO),光学元件的主要供应商,推出了极紫外(EUV)平面镜。这些精密抛光的多层反射镜是为了在设计波长和入射角(AOI)下实现最大的反射而设计的。它们是为EUV波束控制和谐波分离应用而设计的。
13.5nm的最大可实现反射
极紫外(EUV)平面镜有5°和45°AOI版本,在13.5nm处具有近乎理想的反射率,这是EUV光谱中反射率最高的波长。这种符合RoHS标准的镜子提供了沉积在超抛光单晶硅衬底上的涂层,具有优越的热稳定性。这些EUV反射镜的表面粗糙度小于3A RMS,大大降低了入射光的散射。该多层金属/半导体涂层包括一个Mo/Si多层层和一个Si顶层。在632.8nm和6.35mm厚度的表面平坦度λ/10, 45°AOI反射镜是理想的s偏振光转向,而5°AOI反射镜是优秀的使用非偏振光。
适合CDI和材料科学研究
极紫外(EUV)平面镜被用于诸如相干衍射成像(CDI)和材料科学研究等新兴应用。CDI是一种非接触成像技术,分辨率接近10nm,通常用于分析极小的纳米结构。反射镜也被用作高次谐波产生(HHG)光束的谐波选择器。极紫外光(EUV)平面镜现货供应,可立即交货。
关于光电
EdmundOptics®AS领先的光学,成像和光子学技术供应商,为全球生命科学,生物医学,半导体,研发和国防市场。EO设计和制造各种多元素镜头,镜头涂层,成像系统和光学机械设备,同时支持具有股票和定制产品的批量生产的OEM应用。EO的最先进的制造能力,与其全球分销网络相结合,已赢得了世界上最大的现成光学元件供应商的位置。客户可以通过在www.edmundoptics.com上通过Catalog或网站致电1-800-363-1992来购买物品。